√ CH4甲烷 垃圾填埋 EDK 6901 A – 大氣微量CH4監(jiān)測
√ 生物氣/沼氣分析監(jiān)測 EDK 6902 A - 大氣微量CO2 監(jiān)測
√ 連續(xù)污染物排放監(jiān)測 EDK 6903 A - 大氣微量 NH3 監(jiān)測
√ 逃逸排放 EDK 6903 H - 高溫高濕氣中微量NH3監(jiān)測
√ 天然氣監(jiān)測與分析 EDK 6904 H - 高溫高濕氣中微量HCl 監(jiān)測
√ 農(nóng)業(yè)領域 EDK 6900 X - CH4/NH3、 CO2 (NDIR)、O2 (ECD)
√ 工業(yè)過程控制
√ 煙氣脫硝 SCR/DeNOx
√ 氣候變化研究
√ 環(huán)境研究
√ 呼吸分析
· 高靈敏度
· 功能安全、持續(xù)狀態(tài)報告
· 長壽命(+10年)
· 快速響應
· 低功耗
· 低成本方案(無耗材、備品備件、無需再)
· *的低成本元器件決定低成本傳感器
· 19”安裝支架
· 友好的人機界面
· 數(shù)據(jù)存儲與日志
· 可擴展的多點采樣系統(tǒng)
· 零點&寬量程校正
· 傳感器狀態(tài)自檢
·
EDK系列產(chǎn)品采用增強型TDLS技術,0,1nm的掃描波長,避免目標被測氣體吸收波長的交叉干擾,也可稱為“指紋光譜”,可實現(xiàn)高分辨率的近紅外吸收測量。電子鎖相技術實現(xiàn)從光電信息中提取并分離出被測氣體的吸收信息,此種檢測方法,不需要物理參考池,且提供了連續(xù)的傳感器狀態(tài)監(jiān)測。EDK TDL6900系列產(chǎn)品提供了高精度、低檢測限的解決方案,儀器具有對被測氣體高準確度選擇性進行非接觸式測量、免、低成本、易操作等特點。
EDK TDL6900系列產(chǎn)品可以輕松測量一些常規(guī)方式不易測量的微量氣體,比如NH3、CH4、CO2、H2O等,這些氣體的監(jiān)測與分析在很多工業(yè)場合至關重要。高靈敏度和寬的動態(tài)量程,是可調(diào)諧半導體激光器光譜(TDLS)技術的基本特性,可用于測量sub-ppm到%范圍的氣體。
目標氣體 *低檢測限 典型量程
NH3, (H2O) 氨 ***
(高溫高濕工況) 0.2 ppm 0 – 20, 50, 100, 200,(500) ppm
HCl, (H2O) 氯化氫 ***
(高溫高濕工況) 0.4 ppm 0 – 50, 100, (500) ppm
NH3 氨 0.1 ppm 0 – 100 ,200(500) ppm
CH4 甲烷 0.4 (1,000)ppm 0 – 100 (200,000) ppm
CO2 二氧化碳 4.0(2,000) ppm 0 – 1000 (300,000) ppm
* 其他氣體可定制
** 檢測限是在恒溫恒壓恒濕20°C, 1013 hPa、50 ± 1.5 % r.H.條件下。 系統(tǒng)溫度的突然變化導致的檢測限變化要快于濃度的變化,
*** 全程高溫伴熱190°C.
準確度 ± 2%FS 根據(jù)積分穩(wěn)定性(溫度&壓力)而定
精度 根據(jù)氣體而定
零漂 過兩小時每周期---在準確度內(nèi)
量程漂移 過八小時每周期---在準確度內(nèi)
*溫度誤差 < 0.1 讀數(shù)/°C
線性/重復性 < ± 2%
交叉干擾 由混合氣體定,或者根據(jù)實際工況
顯示分辨率 0.1 ppm
刷新率 1s (可設置,*多120 s)
T90時間 2s (@氣量3 L/min)
環(huán)境溫度補償 -10 ~65°C (盡可能小的溫度波動)
*樣氣濕度 %*濕度,根據(jù)工況,需要輸入,通過外擴補償壓力、溫度或混合氣體濃度,可定制
*樣氣量 5(1)L/ min; 時3L/min
供電 VAC220-230/115 50/60 Hz
外殼 19’’ 標準機架安裝(深500mm)
防爆等級 ExdII CT4, ExdII CT5,(可定制)
氣路接口 世偉洛克 Φ6 mm
測量方式 原位抽取
采樣泵 Internal內(nèi)置(耐溫280℃)
模擬輸出 4-20 mA 電流環(huán)(無隔離)
端口 Ethernet網(wǎng)口
顯示器 5.7” 觸摸屏
數(shù)據(jù)存儲 通過USB口
采樣探桿 1m標準,316L、奧式合金、哈氏合金等 ,長度可定制
采樣管線 5m標準,長度可定制
其他推薦產(chǎn)品
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√ CH4甲烷 垃圾填埋 EDK 6901 A – 大氣微量CH4監(jiān)測
√ 生物氣/沼氣分析監(jiān)測 EDK 6902 A - 大氣微量CO2 監(jiān)測
√ 連續(xù)污染物排放監(jiān)測 EDK 6903 A - 大氣微量 NH3 監(jiān)測
√ 逃逸排放 EDK 6903 H - 高溫高濕氣中微量NH3監(jiān)測
√ 天然氣監(jiān)測與分析 EDK 6904 H - 高溫高濕氣中微量HCl 監(jiān)測
√ 農(nóng)業(yè)領域 EDK 6900 X - CH4/NH3、 CO2 (NDIR)、O2 (ECD)
√ 工業(yè)過程控制
√ 煙氣脫硝 SCR/DeNOx
√ 氣候變化研究
√ 環(huán)境研究
√ 呼吸分析
· 高靈敏度
· 功能安全、持續(xù)狀態(tài)報告
· 長壽命(+10年)
· 快速響應
· 低功耗
· 低成本方案(無耗材、備品備件、無需再)
· *的低成本元器件決定低成本傳感器
· 19”安裝支架
· 友好的人機界面
· 數(shù)據(jù)存儲與日志
· 可擴展的多點采樣系統(tǒng)
· 零點&寬量程校正
· 傳感器狀態(tài)自檢
·
EDK系列產(chǎn)品采用增強型TDLS技術,0,1nm的掃描波長,避免目標被測氣體吸收波長的交叉干擾,也可稱為“指紋光譜”,可實現(xiàn)高分辨率的近紅外吸收測量。電子鎖相技術實現(xiàn)從光電信息中提取并分離出被測氣體的吸收信息,此種檢測方法,不需要物理參考池,且提供了連續(xù)的傳感器狀態(tài)監(jiān)測。EDK TDL6900系列產(chǎn)品提供了高精度、低檢測限的解決方案,儀器具有對被測氣體高準確度選擇性進行非接觸式測量、免、低成本、易操作等特點。
EDK TDL6900系列產(chǎn)品可以輕松測量一些常規(guī)方式不易測量的微量氣體,比如NH3、CH4、CO2、H2O等,這些氣體的監(jiān)測與分析在很多工業(yè)場合至關重要。高靈敏度和寬的動態(tài)量程,是可調(diào)諧半導體激光器光譜(TDLS)技術的基本特性,可用于測量sub-ppm到%范圍的氣體。
目標氣體 *低檢測限 典型量程
NH3, (H2O) 氨 ***
(高溫高濕工況) 0.2 ppm 0 – 20, 50, 100, 200,(500) ppm
HCl, (H2O) 氯化氫 ***
(高溫高濕工況) 0.4 ppm 0 – 50, 100, (500) ppm
NH3 氨 0.1 ppm 0 – 100 ,200(500) ppm
CH4 甲烷 0.4 (1,000)ppm 0 – 100 (200,000) ppm
CO2 二氧化碳 4.0(2,000) ppm 0 – 1000 (300,000) ppm
* 其他氣體可定制
** 檢測限是在恒溫恒壓恒濕20°C, 1013 hPa、50 ± 1.5 % r.H.條件下。 系統(tǒng)溫度的突然變化導致的檢測限變化要快于濃度的變化,
*** 全程高溫伴熱190°C.
準確度 ± 2%FS 根據(jù)積分穩(wěn)定性(溫度&壓力)而定
精度 根據(jù)氣體而定
零漂 過兩小時每周期---在準確度內(nèi)
量程漂移 過八小時每周期---在準確度內(nèi)
*溫度誤差 < 0.1 讀數(shù)/°C
線性/重復性 < ± 2%
交叉干擾 由混合氣體定,或者根據(jù)實際工況
顯示分辨率 0.1 ppm
刷新率 1s (可設置,*多120 s)
T90時間 2s (@氣量3 L/min)
環(huán)境溫度補償 -10 ~65°C (盡可能小的溫度波動)
*樣氣濕度 %*濕度,根據(jù)工況,需要輸入,通過外擴補償壓力、溫度或混合氣體濃度,可定制
*樣氣量 5(1)L/ min; 時3L/min
供電 VAC220-230/115 50/60 Hz
外殼 19’’ 標準機架安裝(深500mm)
防爆等級 ExdII CT4, ExdII CT5,(可定制)
氣路接口 世偉洛克 Φ6 mm
測量方式 原位抽取
采樣泵 Internal內(nèi)置(耐溫280℃)
模擬輸出 4-20 mA 電流環(huán)(無隔離)
端口 Ethernet網(wǎng)口
顯示器 5.7” 觸摸屏
數(shù)據(jù)存儲 通過USB口
采樣探桿 1m標準,316L、奧式合金、哈氏合金等 ,長度可定制
采樣管線 5m標準,長度可定制